[일요서울｜장휘경 기자] 특허청이 16일 서울 한국과학기술회관에서 중국, 일본 특허청과 공동으로 ‘한중일 디자인 포럼’을 개최한다고 10일 밝혔다.
 
2015년에는 도쿄, 2016년에는 북경에서 열린 바 있는 ‘한·중·일 디자인포럼’은 올해 8회째이며 매년 3국이 순차적으로 개최하고 있다.
 
한국, 중국, 일본의 특허청 전문가들이 디자인보호와 관련된 주요 현안사항과 이에 대한 해결방안을 논의하기 위해 결성된 디자인포럼은 올해 ‘캐릭터 디자인의 보호(Legal Protection of Character Design)’라는 주제로 개최된다.
 
이날 한중일은 3국 캐릭터 업계의 최근 실태를 진단하고 대안을 모색해보는 한편 캐릭터의 법적 보호를 위해 디자이너 등이 숙지해야할 지식재산권 정보들을 소개할 예정이다.
 
특허청 최규완 상표디자인심사국장은 “4차 산업혁명 시대를 맞아 기계로 대체될 수 없는 인간의 창조 활동, 특히 캐릭터 디자인과 같은 문화산업은 미래에 더욱 그 가치가 높아질 것이다”며 “이번 포럼을 통해 캐릭터 디자인의 권리보호에 대한 인식이 널리 확산돼 건전한 창작활동 조성에 도움이 되기를 바란다”고 밝혔다.
 
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