[일요서울 ㅣ이범희 기자]  삼성전자가 23일 경기도 화성캠퍼스에서 ‘삼성전자 화성 EUV 라인 기공식’을 열고 본격적으로 라인 건설에 착수했다.
  
이번에 착공하는 화성 EUV 라인은 2019년 하반기에 완공, 시험 생산을 거쳐 2020년부터 본격적으로 가동을 시작할 예정이다.
 
이번 신규 라인에는 미세공정 한계 극복에 필수적인 EUV(Extreme Ultra Violet, 극자외선) 장비가 도입될 예정이다. 삼성전자가 향후 반도체 미세공정 기술 리더십을 유지하는 데 핵심 역할을 할 것으로 예상된다.
  
반도체 산업은 공정 미세화를 통해 집적도를 높이고 세밀한 회로를 구현하며 반도체의 성능과 전력 효율을 향상해 왔다. 그러나 최근 한 자릿 수 나노 단위까지 미세화가 진행됨에 따라 보다 세밀한 회로를 구현하기 위해서는 기존 ArF(불화아르곤) 광원보다 파장이 짧은 EUV 장비의 도입이 불가피하게 됐다.
  
EUV 기술이 본격적으로 상용화되면 반도체의 성능과 전력 효율을 향상할 수 있음은 물론 회로 형성을 위한 공정 수가 줄어들어 생산성도 획기적으로 높일 수 있다.
  
삼성전자 DS부문장 김기남 사장은 기념사를 통해 “이번 화성 EUV 신규 라인 구축을 통해 화성캠퍼스는 기흥·화성·평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것”이라며 “삼성전자는 산학연 및 관련 업계와의 다양한 상생협력을 통해 국가 경제에 기여할 것”이라고 밝혔다.
  

 
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